פאָרמולע פּלאַן פֿאַר MCA און אַלומינום היפּאָפאָספיט (AHP) אין סעפּאַראַטאָר קאָוטינג פֿאַר פלאַם רעטאַרדאַנסי

פאָרמולע פּלאַן פֿאַר MCA און אַלומינום היפּאָפאָספיט (AHP) אין סעפּאַראַטאָר קאָוטינג פֿאַר פלאַם רעטאַרדאַנסי

באַזירט אויף די באַניצער ס ספּעציפֿישע באדערפענישן פֿאַר פלאַם-ריטאַרדאַנט סעפּאַראַטאָר קאָוטינגז, די קעראַקטעריסטיקס פוןמעלאַמין ציאַנוראַט (MCA)אוןאַלומינום היפּאָפאָספיט (AHP)ווערן אנאליזירט ווי פאלגנד:

1. קאָמפּאַטאַביליטי מיט סלערי סיסטעמען

• MCA:
• וואַסעריקע סיסטעמען:פארלאנגט אויבערפלאַך מאָדיפיקאַציע (למשל, סילאַן קאַפּלינג אגענטן אָדער סורפאַקטאַנץ) צו פֿאַרבעסערן דיספּערסאַביליטי; אַנדערש קען אַגלאָמעראַציע פּאַסירן.
• NMP סיסטעמען:קען ווײַזן אַ קליינע אָנשוועלונג אין פּאָליאַרע סאָלווענטן (רעקאָמענדירט: טעסט די אָנשוועלונג ראַטע נאָך 7-טאָגיקער אײַנטונקונג).
• AHP:
• וואַסעריקע סיסטעמען:גוטע דיספּערסיביליטי, אָבער pH מוז זיין קאָנטראָלירט (זויערע באדינגונגען קענען פאַראורזאַכן הידראָליז).
• NMP סיסטעמען:הויכע כעמישע פעסטקייט מיט מינימאַלן ריזיקירן פון אָנשוועלונג.
  מסקנא:AHP ווײַזט בעסערע קאָמפּאַטאַביליטי, בשעת MCA דאַרף מאָדיפֿיקאַציע.

2. פּאַרטיקל גרייס און קאָוטינג פּראָצעס אַדאַפּטאַביליטי

• MCA:
• אריגינעלער D50: ~1–2 מיקראָמעטער; דאַרף מאָלן (למשל, זאַמד-מילן) צו רעדוצירן די גרייס פון די פּאַרטיקל, אָבער קען שאַטן זיין שיכטן-סטרוקטור, וואָס אַפעקטירט די עפעקטיווקייט פון פלאַם-פאַרהיטנדיק מאַטעריאַל.
• נאך-מאלן איינהייטלעכקייט מוז וועריפיצירט ווערן (SEM באאבאכטונג).
• AHP:
• ארגינעלע D50: טיפּיש ≤5 מיקראָמעטער; מאָלן ביז D50 0.5 מיקראָמעטער/D90 1 מיקראָמעטער איז דערגרייכלעך (איבערגעטריבענע מאָלן קען פאַראורזאַכן סלערי וויסקאָסיטי ספּייקס).
  מסקנא:MCA האט בעסערע פּאַרטיקל גרייס אַדאַפּטאַביליטי מיט נידעריקער פּראָצעס ריזיקירן.

3. אַדכיזשאַן און אַברייזשאַן קעגנשטעל

• MCA:
• נידעריגע פּאָלאַריטעט פירט צו שלעכטע אַדכיזשאַן מיט PE/PP סעפּאַראַטאָר פילמען; פארלאנגט 5–10% אַקריליק-באַזירטע בינדערס (למשל, PVDF-HFP).
• א הויכער רייבונג קאעפיציענט קען פארלאנגען צו לייגן צו 0.5–1% נאַנאָ-SiO₂ צו פארבעסערן די קעגנשטעל קעגן טראָגן.
• AHP:
• ייבערפלאַך הידראָקסיל גרופּעס שאַפֿן הידראָגען בונדן מיטן סעפּאַראַטאָר, פֿאַרבעסערנדיק די אַדכיזשאַן, אָבער 3-5% פּאָליורעטאַן בינדערס זענען נאָך נויטיק.
• העכערע כאַרטקייט (מאָהס ~3) קען פאַראורזאַכן מיקראָפּאַרטיקל אָפּפאַל אונטער פּראַלאָנגד רייַבונג (פארלאנגט ציקלישע טעסטינג).
  מסקנא:AHP אָפפערט בעסערע קוילעלדיק פאָרשטעלונג אָבער ריקווייערז בינדער אָפּטימיזאַציע.

4. טערמישע פעסטקייט און דעקאמפאזיציע אייגנשאפטן

• MCA:
• צעפאלן טעמפעראטור: 260–310°C; קען נישט שאפן גאז ביי 120–150°C, מעגליך נישט קענענדיק אונטערדריקן טערמישע אנטלאפונג.
• AHP:
• דעקאמפאזיציע טעמפעראטור: 280–310°C, אויך נישט גענוג פאר נידעריג-טעמפּעראַטור גאז דזשענעריישאַן.
  הויפּט פּראָבלעם:ביידע צעפאלן זיך העכער דעם ציל ראַנג (120–150°C).לייזונגען:
• אײַנפֿירן נידעריק-טעמפּעראַטור סינערגיסטנס (למשל, מיקראָענקאַפּסולירט רויט פאָספֿאָר, דעקאָמפּאָזיציע קייט: 150–200°C) אָדער מאָדיפֿיצירט אַמאָוניום פּאָליפאָספֿאַט (APP, באדעקט צו אַדזשאַסטירן דעקאָמפּאָזיציע צו 140–180°C).
• דיזײַן אַMCA/APP קאָמפּאָזיט (6:4 פאַרהעלטעניש)צו נוצן APP'ס נידעריק-טעמפּעראַטור גאַז דזשענעריישאַן + MCA'ס גאַז-פאַזע פלאַם אינהיביציע.

5. עלעקטראָכעמישע און קעראָוזשאַן קעגנשטעל

• MCA:
• עלעקטראָכעמיש אינערט, אָבער רעשטלעך פריי מעלאַמין (ריינקייט ≥99.5% פארלאנגט) קען קאַטאַליזירן עלעקטראָליט דעקאָמפּאָזיציע.
• AHP:
• זויערע אומריינקייטן (למשל, H₃PO₂) מוזן ווערן מינימיזירט (ICP טעסט: מעטאַל יאָנען ≤10 ppm) צו ויסמיידן אַקסעלערירן LiPF₆ הידראָליז.
  מסקנא:ביידע פארלאנגען הויכע ריינקייט (≥99%), אבער MCA איז גרינגער צו רייניקן.

קאָמפּרעהענסיוו לייזונג פאָרשלאָג

1. ערשטיקע פלאַם ריטאַרדאַנט סעלעקציע:

• בילכער:AHP (באַלאַנסירטע דיספּערסיביליטי/אַדכעזשאַן) + נידעריק-טעמפּעראַטור סינערגיסט (למשל, 5% מיקראָענקאַפּסולירט רויט פאָספאָר).
• אַלטערנאַטיוו:מאָדיפֿיצירטע MCA (קאַרבאָקסיל-גראַפטעד פֿאַר וואַסעריק דיספּערסיע) + APP סינערגיסט.

1. פּראָצעס אָפּטימיזאַציע:

• שלייַם פאָרמולע:AHP (90%) + פּאָליורעטהאַן בינדער (7%) + נאַסמאַכער (BYK-346, 0.5%) + דעפאָאַמער (2%).
• גרינדינג פּאַראַמעטערס:זאַמד מיל מיט 0.3 מם ZrO₂ קרעלן, 2000 רפּם, 2 שעה (ציל D90 ≤1 מיקראָמעטער).

1. וואַלידאַציע טעסץ:

• טערמישע דעקאָמפּאָזיציע:TGA (וואָג אָנווער <1% ביי 120°C/2 שעה; גאַז רעזולטאַט ביי 150°C/30 מינוט דורך GC-MS).
• עלעקטראָכעמישע פעסטקייט:SEM באַאָבאַכטונג נאָך 30-טאָגיקער אײַנטונקען אין 1M LiPF₆ EC/DMC בײַ 60°C.

לעצטע רעקאָמענדאַציע

ניט MCA און ניט AHP אליין טרעפן אלע באדערפענישן.כייבריד סיסטעםאיז רעקאָמענדירט:

• AHP (מאַטריץ)+מיקראָענקאַפּסולירט רויט פאָספאָר (נידעריק-טעמפּעראַטור גאַז גענעראַטאָר)+נאַנאָ-SiO₂(אַברייזשאַן קעגנשטעל).
• פאַרבינדט מיט אַ הויך-אַדכעזשאַן וואַסעריק רעזין (למשל, אַקריליק-עפּאָקסי קאָמפּאָסיט עמולסיע) און אָפּטימיזירט ייבערפלאַך מאָדיפיקאַציע פֿאַר פּאַרטיקל גרייס/דיספּערזשאַן פעסטקייט.
  ווייטערדיקע טעסטינגאיז נויטיק צו וואַלידירן טערמיש-עלעקטראָכעמישע סינערגיע.